２０１４年１月９日 山登正文氏 （終了）

日時： ２０１４年１月９日（木）１１：００〜
場所： 首都大学東京　８号館３０２号室
講師： 山登正文氏（首都大学東京）
題目： 磁気プロセスを利用した高分子の高次構造制御

要旨： 我々の身の回りにある物質の多くは"非磁性物質"と呼ばれ、磁石との相互作用が無視されてきた。しかしながら、近年の超伝導技術の進歩により容易に強力な磁場を利用できる環境が整うことで、"非磁性物質"と磁場との相互作用が様々な場面で利用できることが示されてきている。我々は各種高分子材料の高次構造制御の手段として磁場利用を検討し、配向制御や位置制御に磁気プロセスが有用であることを示してきた。ここでは、磁気プロセスの基本原理を簡単に紹介し、現在検討している層状化合物の磁場配向を利用した異方性ハイブリッドゲルの創製および気相成長炭素繊維（VGCF）上でのアイソタクチックポリプロピレン結晶の異方的成長について紹介する。